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半导体备件耗材类备件刻蚀工艺芯片制造8英寸硅上电极
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刻蚀工艺芯片制造8英寸硅上电极

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应用领域:半导体制造刻蚀工艺(Etching)。

应用场景:

●主要用于介质刻蚀(Dielectric Etching)和硅刻蚀(Silicon Etching)工艺,特别适用于高精度芯片制造过程。

●适用于高真空环境,满足先进半导体制造需求。

产品特性:

适用于 200mm 晶圆,广泛应用于成熟制程产线。

●高纯度硅,减少颗粒污染,确保制程稳定性。

●Silicon Only / Elastomer Bonded 选择,提升耐用性与适应性。

●均匀温度分布,优化刻蚀效果,减少缺陷。

产品规格:

●材质:lastomer Bonded(硅 + 石墨):硅和石墨通过弹性体(Elastomer)粘结,提高耐热性和稳定性。

●Silicon Disk Only(Unified):单一硅材质,适用于更高纯度的刻蚀工艺。

●尺寸:8 英寸。

产品展示图:

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