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刻蚀工艺芯片制造8英寸硅上电极
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8英寸 | 库存:10000 | 订货编码:PT200004090020 | 在线询价 | -+ |
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应用领域:半导体制造刻蚀工艺(Etching)。 应用场景: ●主要用于介质刻蚀(Dielectric Etching)和硅刻蚀(Silicon Etching)工艺,特别适用于高精度芯片制造过程。 ●适用于高真空环境,满足先进半导体制造需求。 |
产品特性: ●适用于 200mm 晶圆,广泛应用于成熟制程产线。 ●高纯度硅,减少颗粒污染,确保制程稳定性。 ●Silicon Only / Elastomer Bonded 选择,提升耐用性与适应性。 ●均匀温度分布,优化刻蚀效果,减少缺陷。 |
产品规格: ●材质:lastomer Bonded(硅 + 石墨):硅和石墨通过弹性体(Elastomer)粘结,提高耐热性和稳定性。 ●Silicon Disk Only(Unified):单一硅材质,适用于更高纯度的刻蚀工艺。 ●尺寸:8 英寸。 |
产品展示图: |