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等离子刻蚀高纯度6 英寸硅上电极
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6英寸 | 库存：10000 | 订货编码：PT200004090021 | 在线询价 | -+ |
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应用领域：主要用于半导体制造过程中 等离子刻蚀（Plasma Etching） 设备的反应室（Chamber）中。 应用场景： ●适用于介质刻蚀（Dielectric Etching）和硅刻蚀（Silicon Etching）工艺。 ●适用于高真空环境，满足小尺寸芯片制造、研发测试线、特殊材料刻蚀等应用需求。 |
产品特性： ●适用于 150mm 晶圆，主要用于研发、测试线及小批量生产。 ●高纯度硅材质，减少金属污染，提高芯片良率。 ●双版本选择（Silicon Only / Elastomer Bonded），满足不同工艺需求。 ●优化等离子体分布，提高刻蚀均匀性。 ●耐热性强，减少颗粒污染，延长使用寿命。 |
产品规格： ●尺寸：6 英寸（适用于 150mm 晶圆工艺） 。 ●部件号（P/N）：839-011906-100、839-011906-901 等。 ●材质：Elastomer Bonded（硅 + 石墨）：采用硅与石墨粘结，提高耐热性及耐用性，减少颗粒污染。 ●Silicon Only（Unified）：纯硅材质，适用于高纯度制程，降低金属污染风险。 |
产品展示图：
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