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清洗硅片及氧化层的臭氧（O3）系统
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生产状态：现货
发货日：30 天
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臭氧水浓度
10 ~40 ppm | 库存：10000 | 订货编码：PT200004100012 | 在线询价 | -+ |
20 ~100 ppm | 库存：10000 | 订货编码：PT200004100013 | 在线询价 | -+ |
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产品应用： ●用于生成臭氧水，清洗硅片及氧化层（SiO₂），适用于批处理与单片设备。 |
产品特性： ●技术领先：如HOT DIW的卤素灯加热、O3系统的无金属设计。 ●定制化适配：从200mm到300mm晶圆全覆盖，满足不同产线需求。 ●高可靠性：PID控制、耐腐蚀材料等确保长期稳定运行。 |
产品规格： 适用于批处理类型 ●臭氧水浓度：10 ~40 ppm ●臭氧水流量:10~60 lpm 适用于单一处理类型 ●臭氧水浓度:20 ~100 ppm ●臭氧水流量:5 ~60 lpm |
产品应用图：
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