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掩模和晶圆检测设备INSPECTION
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IRG-12 | 库存：5 | 订货编码：PT200004120003 | 在线询价 | -+ |
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产品应用： ●用于半导体掩模和晶圆的缺陷、污染物和不规则性检测。 ●适用于需要高精度和高效检测的半导体制造工艺。 用法： ●将掩模或晶圆放入检测设备中。 ●使用二色放电灯和多光谱光源进行照明。 ●通过同轴变焦镜头和长工作距离目标进行成像。 ●利用二维背光 CCD 传感器阵列和图像处理器进行高精度缺陷检测。 ●使用 3D 图像处理器和平场校正功能优化检测结果。 ●同时成像多个图像，提高检测效率。 |
产品特性： ●高精度缺陷检测：结合先进的光学和图像处理技术，能够检测掩模和晶圆的缺陷、污染物和不规则性。 ●先进光学器件：同轴变焦镜头和长工作距离目标，提供最佳成像效果。 ●多光谱光源：二色放电灯支持可见光和近红外光谱范围，提供多达 24 个相关频率。 ●高灵敏度图像传感器：二维背光 CCD 传感器阵列，配置为电子快门模式，确保高响应速度和精度。 ●先进图像处理：采用位置补偿滤波技术进行高对比度边缘检测，提高检测准确性。 ●3D 图像处理：3D 图像处理器可从同一平面捕获两个不同图像，提供更全面的检测结果。 ●平场校正：内置平场校正功能，减少样品中光路造成的图像失真。 ●同时成像：支持同时处理多个图像，提高检测效率。 ●缩短检测时间：通过先进的技术和功能，大幅缩短检测时间，改善整体缺陷检测。 |
产品规格： ●SONY IRG-12 |
产品展示图：
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