全自动晶圆/光罩双面清洗设备

产品特性：

●全自动双面清洗技术：配备固定双面刷头，可同时清洁晶圆或光罩的双面，显著提升清洗效率，并在单一通道内实现更彻底的清洁效果。

●高转速与静音模式：刷头转速最高可达4000 RPM，确保高效清洁；静音模式下可调至≤2000 RPM，声级低至45dB，适合洁净室环境。

●多尺寸兼容性：支持最大12英寸晶圆清洗，可扩展设计适配多种尺寸，无需额外硬件改造，适用于不同半导体生产线。

●精密控制与稳定性：采用可调节机械臂，精准控制刷头与晶圆表面的接触压力和距离，结合钢架结构和防振设计，确保工艺稳定性。

●人性化操作界面：配备触摸面板控制器和符合人体工程学的手柄，支持自定义清洁周期（单次或重复循环），操作灵活便捷。

●安全与耐用性：通过CE认证，具备防尘、防腐及抗振功能，适用于苛刻生产环境，集成清洁液存储系统便于维护。

产品规格：

●RIGAKU GXR300