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薄膜沉积低成本溅射反应器II/META
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COSMOS I-1201 | 库存：10000 | 订货编码：PT200004130005 | 在线询价 | -+ |
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产品应用： ●薄膜沉积：用于金属及金属氧化膜的溅射沉积，适用于半导体、光学和显示行业。 ●工艺优化：通过调节功率、基板角度和沉积速率，优化薄膜性能。 ●材料研究：支持多种材料的溅射实验，用于新材料开发。 ●批量生产：适用于高精度、高重复性的薄膜生产需求。 |
产品特性： ●高性能沉积：支持高达0.2 nm/s的沉积速率，适用于高质量薄膜生产。 ●广泛材料兼容性：几乎可溅射任何材料，包括金属（铜、铝、钛、锌）和金属氧化膜。 ●高精度控制：配备射频发生器、离子源和多级电子缸磁体，确保薄膜厚度均匀性和工艺重复性。 ●模块化设计：便于拆卸、清洗和重新组装，降低维护成本。 ●灵活调节：基板可旋转调节，支持不同沉积角度和面积需求。 ●安全可靠：集成燃气和电气安全关闭开关，配备工艺监控传感器，确保操作安全。 ●低运行成本：设计优化，减少维护需求和运行成本。 |
产品规格： ●CanonAnelva COSMOS I-1201 |
产品展示图：
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