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掩模检测多模式成像技术检测设备intray chip
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VI-3200 | 库存：10000 | 订货编码：PT200004130006 | 在线询价 | -+ |
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产品应用： ●晶圆检测：用于检测晶圆表面的缺陷（如空隙、划痕、污染斑点），确保制造质量。 ●掩模检测：检测掩模中的图案不规则性和线宽变化，避免光刻工艺中的误差。 ●缺陷分析：通过3D图像分析和模式识别技术，详细分析缺陷特征。 ●工艺优化：自动优化检测参数，提升检测效率和准确性。 |
产品特性： ●多模式成像技术：结合亮场、暗场和晶圆光谱成像（WSI），提供全面的缺陷检测能力。 ●高精度3D分析：支持3D图像分析，精确测量图案和对齐误差。 ●自动化功能：自动检查设置和参数优化，提升检测效率。 ●先进缺陷分析：支持模式识别和航空图像定量分析，识别微小缺陷。 ●高性能硬件：配备下一代光学工具和高性能图像处理器，确保卓越图像质量。 ●多功能测量：集成2D/3D光学临界尺寸测量，适用于复杂掩模图案分析。 ●高效操作：专为快速设置和操作设计，适合繁忙的生产环境。 |
产品规格： ●VI-3200 |
产品展示图：
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